ASML真的不在意中国市场吗？
近年来，跟着电子、轿车、半导体等工业的展开，我国芯片需求激增，现已成为了全球最大的芯片消费商场。跟着美国的约束打压，我国企业纷繁敞开“国产代替”，下降对国外产品、技能的依靠。但是在芯片制作范畴，短期内还较难打破，因而需求仰赖具有先进光刻技能的巨子供给相关设备。
而 ASML（阿斯麦） 恰恰是主导半导体制作设备商场的几家公司之一。ASML占有全球60%以上的光刻机商场比例，也是全球仅有一家可以供给7纳米及以下芯片所需的EUV光刻机的厂商。受美国对华出口禁令影响，光刻机巨子荷兰ASML第三季度订单削减，在阿姆斯特丹证交所的股价一度大跌。
即使对华出口EUV（极紫外线光刻）光刻机的路难走通，荷兰好像并不乐意抛弃广阔的我国商场，也因而屡次成为“奋斗”的焦点。
阿斯麦不想抛弃我国生意
近来，一位荷兰高级官员标明，在向我国出售芯片设备方面，荷兰将保卫其经济利益，并宣布了一个剧烈的信号，即虽然美国加大了压力，但其不会屈服于美国的钳制。
业界人士标明，此前韩国着重不要损坏对华的出口，以此作为参加美国领导的“芯片4”联盟的先决条件，或许会增强日本和其他相关成员恪守美国指令的抵抗，由于他们了解到，屈服于华盛顿的压力不会带来任何收益，而是有或许将世界上最有利可图的半导体商场之一让给竞赛对手，乃至会在与北京的双方经济关系中构成不和谐。
据彭博社报导，荷兰外贸部长Liesje Schreinemacher周二告知立法者，荷兰将在与美国的交易规矩商洽中就ASML向我国出售芯片设备做出自己的决议。
彭博社征引Schreinemacher的话说，咱们有必要保卫自己的利益——咱们的国家安全，但也保卫咱们的经济利益。Schreinemacher指出，假如荷兰“将这种爱好放在欧盟篮子里并与美国商洽，终究咱们向美国赠送DUV（深紫外线光刻）”，状况会“更糟”。
此前，拜登政府加大了对包含日本和荷兰在内的盟友的压力，迫使他们与10月初发布的全面禁令保持一致，该禁令制止向我国出口更广泛的先进芯片制作设备。职业调查人士标明，荷兰政府的谈论是批评性的，由于它清晰表达了对美国日益增加的不满，美国一向在其盟友中回旋，并将加强其他国家不屈服于美国钳制的决议。
分析师还标明，此举的部分原因是韩国参加“芯片4”联盟的强硬态度，该联盟是一个由美国领导的小型半导体圈，终究目标是对我国大陆制作“半导体屏障”。
据报导，8月，首尔拟定了参加该联盟的条件，这在很大程度上淡化了小集团的反华颜色。据韩国新闻门户网站Pulse News报导，首尔揣度，这四名成员“应该尊重一个我国方针，不要提及对我国的任何出口壁垒”。
虽然 ASML 没有向我国出售任何其最先进的极紫外光刻机，由于荷兰政府在美国的压力下回绝颁发它许可证，但该公司仍可以向亚洲国家出售不太杂乱的芯片制作体系。
但是，据彭博社报导，美国官员一向在向荷兰政府施压，要求其制止出售浸没式光刻机，这是 ASML 深紫外产品线中最先进的设备。拜登政府一向在尽力让包含荷兰和日本在内的盟国采取其在10月初发布的全面办法，制止为我国制作更多芯片机器。
美国高级官员包含主管工业和安全的商务部副部长Alan Estevez，本月将前往荷兰评论出口控制问题。但据彭博社报导，估计谈判不会当即达成协议。
欧盟商洽代表正在与华盛顿就一些有争议的交易问题进行商量。一些国家，尤其是法国，标明这些办法或许会危害欧洲经济，并增加了向世界交易组织提出申述的或许性。这些问题将成为下个月初交易和技能委员会的说话主题。
马云有观念以为，荷兰的揭露言辞标明，抵抗美国压力的优点“远远大于”屈服，这将供给演示效果，并使日本等更多美国盟友仿效。
我国或可另辟蹊径
受制于美国之前的禁令，ASML不会将其EUV光刻机出售给我国。但分析师标明，就先进的DUV光刻机而言，与我国大陆商场相关的比例很高，“脱钩”或许会堵截该公司的大部分赢利，并损坏其对未来技能的研制出资。
依据ASML的2021年财报，我国商场是其第三大商场，占上一年全球收入的14.7%。2021年，其运往我国的设备占全球16%。
虽然无法向我国出口EUV光刻机，但我国现已成为ASML的DUV光刻机最重要的商场之一。揭露材料显现，DUV光刻机与EUV光刻机的首要差异在于光源的波长，这决议了芯片的制程。DUV光刻机现在尚无法制作出7纳米及以下制程的芯片，但足以用于制作需求量更大的老练制程芯片。
与ASML近乎独占的EUV不同，DUV职业的竞赛适当剧烈。假如ASML退出，这一距离将很快由日韩等的其他竞赛对手添补。马云说，我国芯片公司在芯片制作方面也获得了重大打破，他们行将供给本乡代替品，这或许意味着ASML的“永久性丢失”。
据悉，台积电曾用DUV光刻机屡次曝光完成了7nm的量产，证明了多重曝光技能的可行性。不只如此，美国存储芯片巨子美光科技也采用了多重曝光，运用DUV光刻机开宣布高功能DRAM芯片，芯片能效提升了25%，功耗下降20%，密度提升了35%。
业界正在积极探索先进封装工艺，用2.5D或许3D封装技能将芯片功能继续扩展。现在现已呈现芯片堆叠、芯粒等开辟途径，且先进封装会成为后摩尔年代的干流技能，必定程度大将削减EUV光刻机的参加。而日本铠侠的纳米压印技能，美光的EUV多重曝光和先进封装工艺都有望脱节对EUV光刻机的依靠。
在上海第五届我国世界进口博览会期间，在美国对我国的技能约束不断晋级的状况下，日企小心谨慎地展现其半导体制作设备。尼康展现了其最新的ArF和KrF扫描光刻机，以及i线步进式光刻机。佳能则带来了蒸镀机等光学半导体工业设备的使用。
ASML的奋斗并不是孤例。职业调查人士标明，假如严格执行新办法，或许会使一些美国和全球芯片职业巨子总收入的30%面对危险，由于我国占其总收入的三分之一。
在11月初的例行新闻发布会上，我国外交部发言人赵立坚着重，全球芯片工业链供给链的构成和展开，是商场规律和企业挑选一起效果的成果。歹意打压我国，不只会严重损坏全球交易规矩，还会损坏全球工业链的安稳。
近年来，国内多家企业已在光刻机范畴攻关。据我国电子专用设备工业协会和世界半导体工业协会的数据计算，2021年我国半导体设备商场出售额为187.2亿美元，同比增加39.2%，但我国半导体设备国产化率仅为20.2%。有媒体称，上海微电子公司现已可以完成90纳米光刻机的商业化出产，而且正在向着全球先进水平继续展开研制，但仍需求必定时刻。假如能在我国半导体制作技能获得重大进展之前继续为我国商场供货，信任ASML可以进一步保持安稳赢利。